Оборудование контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии
Оборудование контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии
-
Оборудование для производства фотошаблонов
Прецизионные генераторы изображений фотошаблонов
-
Оборудование для фотолитографии
Оборудование для проекционного переноса изображений на полупроводниковые пластины
- Сборочное оборудование
-
Испытательное оборудование
Имитаторы помех
- ГЭСР. Генератор электростатических разрядов
- ИП-2. Имитатор динамических изменений напряжения
- ИП-2А. Имитатор динамических и постепенных изменений напряжения
- ИП-2БМ. Имитатор посадки напряжения
- ИП-5А. Имитатор кратковременных помех
- ИП-5. Имитатор импульсных помех
- ЕК. Емкостные клещи
- УСР-Н. Устройство связи-развязки наносекундное
- ИП-6. Имитатор средних импульсов
- ИП-7. Имитатор длинных импульсов
- ИП-8. Имитатор импульсных помех
- УСР-М. Устройство связи-развязки микросекундное
- УСР-М1. Устройство связи-развязки микросекундное
- ИП-9. Имитатор помех
- ИП-10. Имитатор помех
- ИП-11. Имитатор помех
- ВПК. Устройство для проверки внешней поверхности кожухов
- БИ. Барабан испытательный
- УД. Устройство для испытания на удар
- КУ. Калибрующее устройство
- УИИ. Устройство для испытания на износостойкость
- СИШВ. Стенд для испытания устройств, сконструированных в виде штепсельной вилки
- КИ. Крюк испытательный
- ИШ. Испытательный штекер
- ИСЗ. Измеритель сопротивления заземляющей шины
- ЦИ. Цепочка испытательная
- УПС. Установка для проверки стойкости к образованию токоведущих мостиков
- ЭП. Установка для испытания на электрическую прочность
- ОТМ. Комплект отвёрток тарированных по моменту
- УПП. Устройство проверки антенных вводов перенапряжением
- ИТУ - Б. Измеритель токов утечки бытовых электроприборов
- ИТУ - М. Измеритель токов утечки медицинских электрических изделий
- УОН. Устройство проверки остаточного напряжения на штырях сетевой вилки
Один из старейших видов фотолитографии - контактная, тем не менее широко используется в современном производстве. Качество фотошаблонов и современные возможности контроля изготовления фотошаблонов дают высокие результаты для контактной литографии. Здесь существует компромисс между более простым процессом совмещения и экспонирования и сложности и массовости полупроводникового изделия.
За историю нашего предприятия мы разработали широкую гамму установок контактной печати как для мелкосерийных производств и научных лабораторий (с ручной загрузкой), так и полностью автоматических для серийных производств.
Так как на рынке востребованы установки с совмещением по обратной стороне (особенно при производстве МЭМС-приборов и датчиков) нами разработаны установки, позволяющие создавать производственную линию реализующую технологию двусторонней фотолитографии. Наше оборудование является лидером по уровню привносимой дефектности, точности совмещения, разрешающей способности и потребляемой мощности.
ОСНОВНЫЕ ОСОБЕННОСТИ БАЗИРУЮТСЯ НА УНИКАЛЬНЫХ КОНСТРУКТОРСКИХ РЕШЕНИЯХ:
- автоматическая система совмещения пластины и фотошаблона;
- автоматическая система загрузки и выгрузки пластин;
- автоматическая система компенсации клина и разнотолщинности пластин без контакта с фотошаблоном;
- высокоточный манипулятор перемещения пластин по трем координатам (Х,Y,Q) с двумя ступенями (грубого и тонкого) совмещения;
- возможность работать с пластинами из хрупких материалов (арсенида галлия и ниобата лития толщиной 0.2…0.8 мм);
- автоматическая возможность работы с подложками прямоугольной формы;
- встроенная система видеоконтроля;
- встроенная в установку система защиты от вибрации;
- режим энергосбережения.
Для получения более подробной информации по модельному ряду оборудования контактного переноса изображений на подложки и для организации двусторонней литографии свяжитесь с нами:
Отдел маркетинга:
Телефон: | +375 17 223 71 28, +375 17 226 09 82 |
E-mail: | office@kbtem-omo.by |
- Приёмная
- Политика обработки персональных данных
- Copyright © 2024 Планар Все права защищены.